特許

J-GLOBAL ID：200903066495724022

光ディスク用オーバーコート膜、光ディスクとその製造方法

発明者： 川淵 晃 ,  横山 宏幸 ,  高塚 裕二
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社 ,  住友金属鉱山株式会社 ,  ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 鍬田 充生 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-075428
公開番号（公開出願番号）：特開平6-259811
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】 光ディスクの保護膜が損傷しても、低摩擦力と高い耐久性とを併せもつオーバーコート膜と交換し、磁気ヘッド及び記録膜の損傷を抑制する。【構成】 光ディスクは、基板1、記録膜2およびオーバーコート膜8とを備えている。前記記録膜2は、基板1をエッチングし、直流スパッタリング法により形成された誘電体干渉層3と、光磁気記録層4、第1の誘電体保護層5及び反射層6と、この反射層6を保護するための第2の誘電体層7とで構成される。前記オーバーコート膜8は、前記記録膜2に対して密着かつ剥離可能な接着層9と、この接着層に形成された樹脂層10と、この樹脂層に形成され、摩擦抵抗を低減するための第3の誘電体層11とで構成されている。オーバーコート膜8の厚みは、例えば、3〜10μm程度である。

請求項（抜粋）：

光ディスクの記録膜を保護するオーバーコート膜であって、前記記録膜に対して密着かつ剥離可能な接着層を有するオーバーコート膜。

IPC (3件)：

G11B 7/24 537 ,  G11B 7/26 ,  G11B 11/10