特許

J-GLOBAL ID：200903066498801117

半導体製造装置

発明者： 遠目塚 幸二 ,  示野 和弘 ,  開発 秀樹
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-120836
公開番号（公開出願番号）：特開平8-046012
出願日： 1995年04月21日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】被処理物が装填されるカセットの搬入搬出時にも半導体製造装置内部のクリーンエアの一様流れが乱されない様にし、被処理物の汚染を防止すると共にクリーンエアの一様流れを乱すことなく被処理物の搬送を行ってスループット向上を図る。【構成】2重のシャッタ22,23が独立した空間を形成し、該空間内にカセットステージ7が収納され、或は又第2の遮蔽手段はカセット搬入搬出口に設けられるカセット授受ステージの内側に設けられたシャッタであり、或は又第1、第2の遮蔽手段はどちらか一方が閉じられている時、他の遮蔽手段が開けられる構成であり、或は又区画された空間それぞれに独立したクリーンエアの一様流れを形成し、或は又第1空間のクリーンエア流れは装置の一方の側面から機構駆動部を下流側とし、対向する側面にへと流れ、第2のクリーンエア流れは上部から降下し、装置前面から流出する。

請求項（抜粋）：

半導体製造装置内をボートエレベータ、ウェーハ移載機、カセット収納棚を収納する第1の空間と該第1の空間に隣接しカセット搬送機を収納する第2の空間とに区画する第1の遮蔽手段を具備したことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  F24F 7/06 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324