特許

J-GLOBAL ID：200903066504587513

X線発生装置及びその製造方法

発明者： 大坂 尚久
出願人/特許権者： 理学電機株式会社
代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-209984
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040092
出願日： 1997年07月18日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 冷却し易く、しかも容易に高い真空度を得ることができるX線発生装置を提供する。【解決手段】 X線を発生するためのフィラメント4及びターゲット6をケーシング8によって包囲する構造を有するX線発生装置である。ケーシング8は、母材17と、母材17の内側表面に拡散接合によって設けられた被覆材18とを有する。母材17は被覆材18に比べて熱伝導性の高い材料、例えば銅によって形成され、被覆材18は母材17に比べて真空下でガスを放出し難い材料、例えばステンレスによって形成される。拡散接合は、熱間等方加圧処理によって実現できる。

請求項（抜粋）：

X線を発生するX線発生源と、そのX線発生源を包囲するケーシングとを有するX線発生装置において、上記ケーシングは、母材と、その母材の内側表面に拡散接合によって設けられた被覆材とを有し、上記母材は上記被覆材に比べて熱伝導性の高い材料によって形成され、さらに、上記被覆材は上記母材に比べて真空下でガスを放出し難い材料によって形成されることを特徴とするX線発生装置。