特許
J-GLOBAL ID：200903066505442799
流動層触媒反応装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大澤 斌 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-183059
公開番号（公開出願番号）：特開平8-024623
出願日： 1994年07月13日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：
【要約】【目的】 従来の装置では処理することが難しかったような炭素含量の大きい原料を処理できる流動層触媒反応装置を提供することである。【構成】 本装置10は、反応塔12と、上部の再生部14と、下部の冷却部16とからなる複合塔18とを備えている。再生部は、流動層を形成して反応塔から移送された触媒を再生し、再生した触媒を反応塔に送入する。冷却部は、連通部36を介して上部の再生部に連通している。また、再生部流動層から触媒を冷却部流動層に溢流させる溢流管58が、再生部から連通部を貫通して冷却部に下降するように設けられている。冷却部は、管60より流動化ガスを導入して触媒を流動させつつ冷却管62により冷却し、冷却した触媒を流動化ガスに同伴させて再生部流動層に戻す。連通部は、多数の貫通孔を備え、冷却部から上昇する流動化ガス及びそれに同伴された触媒を通過させると共に再生部に形成された触媒流動層を支持する。触媒は、溢流管を介して再生部流動層から冷却部流動層に流下して冷却され、次いで冷却部流動層から流動化ガスに同伴して再生部流動層に戻る。
請求項（抜粋）：
触媒流動層を形成しつつ反応を進行させる反応塔と、触媒流動層を形成しつつ反応塔から移送された触媒を再生する再生塔とを備え、再生した触媒を反応塔に送入するようにした流動層触媒反応装置において、再生塔が、触媒を再生する再生部と、再生部の下に形成された冷却部と、再生部と冷却部との間に位置して再生部と冷却部とを連通させる連通部とから構成され、冷却部は流動化ガスを導入して触媒を流動させる手段と流動化した触媒を冷却する手段とを備えて再生部から流下した触媒を流動させつつ冷却し、連通部が、多数の貫通孔を有する部材で形成されていて、貫通孔を介して、冷却部流動層から上昇する流動化ガス及びそれに同伴する触媒を再生部に流入させると共に再生部の触媒流動層を支持し、再生部流動層から触媒を冷却部流動層に溢流させる溢流管が、再生部から冷却部に下降するように設けられ、触媒は、溢流管を介して再生部流動層から冷却部流動層に流下して冷却され、次いで冷却部流動層から流動化ガスに同伴して再生部流動層に戻るようにしたことを特徴とする流動層触媒反応装置。
IPC (5件)：
B01J 8/28
, B01J 8/24 311
, B01J 8/24 321
, C10G 11/18
, C10G 47/30
