特許

J-GLOBAL ID：200903066512824265

プラズマ処理方法及び装置

発明者： 北 武司 ,  奥村 智洋
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-321104
公開番号（公開出願番号）：特開2002-134473
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
要約：

【要約】【課題】 プラズマの拡散を抑制し、プラズマをポンプ内に進入させないフロン系ガスをプラズマ分解するプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 真空室1内にプロセスガスやドライクリーニングとして用いられたフロン系ガスを導入しつつポンプ3により排気を行い、高周波電力を供給すると、真空室1内にプラズマが発生し、フロン系ガスがプラズマ分解する。真空室1とポンプ3の間に導電性でかつ接地されている格子状の網を設置することによって、真空室1からの電磁波を遮断できてプラズマの拡散を抑制し、プラズマをポンプ内に進入させることがない。

請求項（抜粋）：

真空室内にガスを供給しつつ上記真空室内を排気しながら、上記真空室に高周波電力を印加することにより、上記真空室内にプラズマを発生させ、PFC、HFC、又はSF6のフロン系ガスをプラズマ分解するプラズマ処理方法であって、上記真空室と上記真空室を排気する排気装置との間のプラズマ遮蔽板によってプラズマの拡散を抑制することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/505

FI (5件)：

B01J 19/08 E ,  H01L 21/31 B ,  H05H 1/46 A ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/302 B

Fターム (32件)：

4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC09 ,  4K030AA16 ,  4K030AA18 ,  4K030EA11 ,  4K030EA12 ,  4K030FA01 ,  4K030JA09 ,  4K030JA18 ,  4K030KA12 ,  5F004BB28 ,  5F004BC02 ,  5F004DA00 ,  5F004DA18 ,  5F045AA08 ,  5F045BB20 ,  5F045EB06 ,  5F045EF20 ,  5F045EG07