特許

J-GLOBAL ID：200903066533781264

投影露光装置

発明者： 河野 道生
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-103616
公開番号（公開出願番号）：特開平8-298238
出願日： 1995年04月27日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】 投影光学系の残存収差、或いは、露光による熱収差の影響を受けにくい、安定したフォーカス計測が可能となる投影露光装置の提供。【構成】 物体上のパターンを基板上に投影露光する投影光学系と、前記投影光学系の焦点位置を検出するために繰り返しパターンを有する計測マークの像を前記投影光学系を介して検出する焦点位置検出手段とを有する投影露光装置で、前記投影光学系の開口数をNA、投影倍率をβ、露光波長をλとした時、前記繰り返しパターンの周期Pは、 2λ/(NAβ)< P < 16λ/(NAβ)を満たす。

請求項（抜粋）：

物体上のパターンを基板上に投影露光する投影光学系と、前記投影光学系の焦点位置を検出するために繰り返しパターンを有する計測マークの像を前記投影光学系を介して検出する焦点位置検出手段とを有する投影露光装置において、前記投影光学系の開口数をNA、投影倍率をβ、露光波長をλとした時、前記繰り返しパターンの周期Pは、2λ/(NAβ)< P <16λ/(NAβ)を満たすことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/207

FI (3件)：

H01L 21/30 526 A ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 526 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-221813
  
• 特開平2-214860
  
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-294613   出願人：富士通株式会社
• 特開昭63-137421