特許

J-GLOBAL ID：200903066535861923

フォトマスク外観検証システム及び方法

発明者： 永村 美一
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 田澤 博昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-303346
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107672
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ検査で検出された座標値をフォトマスク検査で使用される座標値に変換し、フォトマスクの不具合解析を早期に行うフォトマスク外観検証システムを提供する。【解決手段】 ウエハ検査装置4が検出した不具合箇所の座標値とウエハ検査情報を、検査データ管理コンピュータ5を用いて座標変換コンピュータ6へ送り、ウエハ検査情報とフォトマスク検査情報とに基づいてウエハ検査で検出した座標値をフォトマスク上の座標値へ変換し、フォトマスクの不具合箇所を解析する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクを製造するフォトマスクメーカとの間で、ネットワークを介して情報通信を行い前記フォトマスクを検証するフォトマスク外観検証システムであって、前記フォトマスクを用いてウェハを作製するフォトマスクユーザは、作製したウエハを検査するウエハ検査手段と、前記ウエハ検査手段が検出した前記ウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と、前記ウエハ検査手段で使用したウエハ検査情報とを前記フォトマスクメーカへ送信する検査データ管理手段とを備え、前記フォトマスクメーカに、送信した前記座標値と前記ウエハ検査情報に基づいて、前記フォトマスクの不具合箇所を観察させることを特徴とするフォトマスク外観検証システム。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 S ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2G051AA56 ,  2H095BD02 ,  2H095BD28