特許

J-GLOBAL ID：200903066540514492

シロキサン系ポリマー含有塗布液及びその製造方法

発明者： 腰山 雅巳 ,  児玉 和美 ,  福山 俊一 ,  中田 義弘
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-292176
公開番号（公開出願番号）：特開平8-130247
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】平坦性、耐クラック性、塗布性、基板との密着性などに優れた絶縁膜の材料としてシロキサン系ポリマー含有塗布液とその製造方法を提供する。【構成】シロキサン系ポリマーを極性有機溶剤に均一に溶解したシロキサン系ポリマー含有塗布液であって、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる群より選ばれた少なくとも1種のアルコキシシランを、水、酸触媒、及び極性有機溶剤の存在下に、5〜45°Cの温度で加水分解縮重合することを特徴とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定法によるポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜1,500で、かつ、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.40未満のシロキサン系ポリマーを含有する塗布液として製造する。

請求項（抜粋）：

トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも1種のアルコキシシランを加水分解縮重合して得られたゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定法によるポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜1,500で、かつ、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.40未満のシロキサン系ポリマーと、該シロキサン系ポリマーを均一に溶解するのに充分な量の極性有機溶剤とを含有することを特徴とするシロキサン系ポリマー含有塗布液。

IPC (4件)：

H01L 21/768 ,  C08G 77/02 NTZ ,  C09D183/02 PMN ,  H01L 21/312