特許

J-GLOBAL ID：200903066553129202

ガス分離フィルタおよびその製造方法

発明者： 由宇 喜裕
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-241714
公開番号（公開出願番号）：特開2001-062265
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【課題】パーフルオロ化合物ガスを含有する混合ガスから該パーフルオロ化合物ガス以外の特定ガスを選択的かつ効率的に透過して、該パーフルオロ化合物ガスを分離、濃縮するのに好適なガス分離フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】セラミック多孔質支持体2の表面にパーフルオロ化合物ガスを含む混合ガスより該パーフルオロ化合物ガス以外の特定ガスを選択的に透過して、分離しうる多数の細孔を有するシリカを主成分とする無機分離膜3を被着形成してなり、無機分離膜3の前記細孔開口部を除く表面に耐食性保護膜4を被着形成したガス分離フィルタ1を用いて、前記パーフルオロ化合物ガス以外の特定ガスを選択的かつ効率的に透過、分離する。

請求項（抜粋）：

セラミック多孔質支持体の表面に、特定ガスを含む混合ガスより該特定ガスまたは該特定ガス以外の他の特定ガスを選択的に透過して、分離しうる多数の細孔を有するシリカを主成分とする無機分離膜を被着形成してなるガス分離フィルタであって、前記無機分離膜の前記細孔開口部を除く表面に耐食性保護膜を被着形成したことを特徴とするガス分離フィルタ。

IPC (5件)：

B01D 69/10 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/70 ,  C04B 41/85

FI (5件)：

B01D 69/10 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/70 ,  C04B 41/85 C

Fターム (32件)：

4D006GA41 ,  4D006HA27 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MA40 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006NA31 ,  4D006NA39 ,  4D006NA45 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PB19 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB65 ,  4D006PB66 ,  4D006PB68 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01