特許
J-GLOBAL ID：200903066580353025
陰極線管のフェースプレートパネルにコードマークを形成する方法およびそのコードマークを有する陰極線管
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 勝徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-230615
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064135
出願日： 1995年08月07日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【課題】 パネルの側壁に発光スクリーンの材料と同じ材料でできたコードマーク32を形成する。【解決手段】 陰極線管パネル12にコードマーク32を形成する方法である。パネルの観察領域18と側壁20の内部表面にフォトレジスト42を被着し;フォトレジスト領域に化学線を照射して、フォトレジストの可溶性を選択的に変化させ;フォトレジストを現像して、可溶性の高い領域を除去し、内部表面を露出させ、可溶性の低いフォトレジストの保持領域を残し;フォトレジスト保持領域とパネル内部表面の露出部分とを光吸収材料で被覆し;光吸収材料を乾燥させて光吸収コーティングを形成し;光吸収コーティングに覆われたフォトレジスト保持領域を除去し、パネルの内部表面の露出部分に被着した光吸収材料領域34を残すことによって、光吸収コーティングを現像する。
請求項（抜粋）：
側壁に囲まれた観察領域と、外部表面および内部表面を有する陰極線管フェースプレートパネルであって、上記観察領域の内部表面には光吸収材料によって互いに隔てられた相異なる光を放射する複数の蛍光体を有する発光スクリーンが設けられている陰極線管のフェースプレートパネルに、コードマークを形成する方法で;上記パネルの上記内部表面に上記観察領域から上記側壁上に拡がるように適当なフォトレジストを被着する段階と、上記観察領域と上記側壁の双方の上にある上記フォトレジストの領域を化学線で照射して、上記フォトレジストの領域各部におけるフォトレジストの可溶性を選択的に変化させる段階と、上記フォトレジストを現像して、可溶性のより高い部分を除去してその部分の下にある上記パネルの内部表面部分を露出させるが、可溶性のより低いフォトレジストの保持領域は残す段階と、上記パネルの上記内部表面の上記フォトレジストの上記保持領域と露出した上記部分とを光吸収材料で被覆する段階と、上記光吸収材料を乾燥させて、上記フォトレジストの保持領域を覆い、かつ上記パネルの上記内部表面の露出した上記部分に付着した光吸収材料のコーティングを形成する段階と、上記光吸収材料に覆われた上記フォトレジストの上記保持領域を除去し、上記パネルの上記内部表面の露出した上記部分に付着した上記光吸収材料のコーティングを残すことによって、上記観察領域の上記光吸収材料中に開口を形成し、上記パネルの上記側壁上に光吸収材料領域およびスペース領域のパターンを含むコードマークを形成する、上記光吸収材料のコーティングの現像段階と、を含むことを特徴とする、陰極線管のフェースプレートパネルにコードマークを形成する方法。
IPC (4件)：
H01J 9/24
, H01J 9/00
, H01J 9/42
, H01J 29/86
