特許
J-GLOBAL ID：200903066593761220
半導体製造設備診断方式
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-050375
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251295
出願日： 1992年03月09日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】【目的】半導体装置の診断に際し設備の動作を行う設備シーケンス情報を設備に設定し、その動作を設備で行い、設備の動作情報と運転状態をモニタし、設備診断ルール、すなわち、診断の根拠となる事象の把握ができる診断システムを提供する。【構成】診断用設備に診断に必要な設備動作の来歴と設備を運転した時の設備状態としてモニタする項目を設備に設定する。設備動作に対応し、設備動作の情報、設備を運転した時の設備状態の変動情報をモニタし、データを収集する。収集データは、データの選択はルールをもとにデータを分類し設備を運転した時の設備状態の変動の特徴量を算出し、診断としてルールにある特徴量の判定基準にしたがってデータを診断する。診断の出力は、設備状態で起こっている現象を判断する。
請求項（抜粋）：
診断システムであって、半導体製造設備の停止後に運転を開始した設備に関わる運転状態に関わる情報と該設備の部位の動作の時間変化を記憶し、両情報を時間を共通にしたデータとして扱い、設備の部位の動作と連動した設備の運転状態の変動の特長量を算出し、該特徴量をその判断基準と比較し、該比較結果から設備で発生している状態を特定して設備の診断を行う診断方式であり、該診断を判定ルールに従って連続的に行い結果を知らせることを特徴とした半導体製造設備診断方式。
IPC (3件)：
H01L 21/02
, G06F 15/21
, G06F 11/22 360
