特許

J-GLOBAL ID：200903066595439511

パタ-ン検査方法およびパタ-ン検査装置

発明者： 佐々 泰志
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001151
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199709
出願日： 1999年01月06日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 検査対象物についてパターンの材料、プロセスの種類に関わらず、パターンの正確な検査が行えるパターン検査方法およびパターン検査装置を提供する。【解決手段】 CCDカメラ14で撮像した画像をA/D変換器15でデジタル信号に変換し被検査画像の多値データを取得する。疑似多値化パラメータ生成部33において、統計学的手法を利用し、この画像データにおける画素値分布状況の特徴である疑似多値化パラメータを算出する。そして、疑似多値化処理部35にて、疑似多値化パラメータを用い、基準データ記憶部39に記憶される良品パターンである基準画像の2値データを多値データに変換し、参照画像を得る。この参照画像と被検査画像とを比較し、パターンの欠陥の有無を判定する。その結果、比較検査に用いる参照画像は被検査画像の特徴を反映しているため、検査対象物についてパターンの材料、プロセスの種類に関わらず、パターンの正確な検査が行える。

請求項（抜粋）：

表面にパターンが形成された対象物の画像を読取ってパターン検査を行う方法であって、検査基準である2値の基準画像を準備する準備工程と、前記対象物の画像としての被検査画像を画素毎の多値データとして得る画像取得工程と、前記被検査画像の多値データから画素値の分布状況の特徴を抽出する特徴抽出工程と、前記分布状況の特徴に応じて、前記基準画像の2値データを多値データに変換し、参照画像を得る画像変換工程と、前記被検査画像と前記参照画像とを比較する比較工程と、を備えることを特徴とするパターン検査方法。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00

FI (4件)：

G01B 11/24 K ,  G01B 11/24 F ,  G01N 21/88 J ,  G06F 15/62 405 A

Fターム (41件)：

2F065AA54 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ39 ,  2F065QQ43 ,  2F065RR09 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA65 ,  2G051AB02 ,  2G051AC11 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051EA11 ,  2G051EB01 ,  2G051EB09 ,  2G051EC02 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE05 ,  5B057CE06 ,  5B057CE13 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC16 ,  5B057DC23 ,  5B057DC32

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 時系列処理画像の表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-209768   出願人：コニカ株式会社