特許
J-GLOBAL ID:200903066596958326
ジスアゾ顔料の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-039375
公開番号(公開出願番号):特開2001-354866
出願日: 2001年02月16日
公開日(公表日): 2001年12月25日
要約:
【要約】【目的】透明性と流動性、フラッシング性とフラッシング排水着色耐性に優れた、または乾燥状態でインキ化した場合の分散性に優れた印刷インキを調整できるジスアゾ顔料を提供する。【構成】カップラー水溶液と、ベンジジン類のテトラゾ成分を含むテトラゾ水溶液とを、上記カップラー成分が反応系で実質的に析出しないように、かつ上記テトラゾ成分が直ちに反応するように、酸性水溶液中に同時に注入してカップリング反応をさせる際、カップラー成分として式(1)を主成分とし、式(2)の成分と式(3)の成分を併用するジスアゾ顔料の製造方法。式(1)CH3COCH2CONH-X(Xはフェニル基を表す。)式(2)CH3COCH2CONH-Y(Yは-CONR2基、-SO2NR2基または-NHCOR基置換フェニル基を表す。)式(3) CH3COCH2CONH-Z(Zはカルボン酸基、水酸基またはスルホン酸基置換フェニル基を表す。)
請求項(抜粋):
カップラー成分を含むカップラー水溶液と、ベンジジン類のテトラゾ成分を含むテトラゾ水溶液とを、上記カップラー成分が反応系で実質的に析出しないように、かつ上記テトラゾ成分が直ちに反応するように、酸性水溶液中に同時に注入してカップリング反応をさせるジスアゾ顔料の製造方法において、上記カップラー成分として、一般式(1)で示されるカップラー成分を主成分とし、一般式(2)で示されるカップラー成分と一般式(3)で示されるカップラー成分を併用することを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法。一般式(1)CH3COCH2CONH-X(式中、Xはメチル基、メトキシ基および塩素原子から成る群から選ばれる同一または異なる置換基を有していてもよいフェニル基を表す。)一般式(2)CH3COCH2CONH-Y(式中、Yはメチル基、メトキシ基、塩素原子、-CONR2基、-SO2NR2基および-NHCOR基から成る群から選ばれる同一または異なる置換基を有するフェニル基であって、該フェニル基は-CONR2基、-SO2NR2基または-NHCOR基の少なくとも1種で置換されているフェニル基を表す。ただし、Rは同一でも互いに異なっていても良く、水素原子、C1〜C4アルキル基(該アルキル基は互いに結合して環を形成しても良い。)またはC1〜C4アルキレンNR’2 基を表し、R’は水素原子または互いに異なっていても良いC1〜C4アルキル基(該アルキル基は互いに結合して環を形成しても良い。)を表す。)一般式(3)CH3COCH2CONH-Z(式中、Zはメチル基、メトキシ基、塩素原子、カルボン酸基もしくはそのアルカリ金属塩、水酸基およびスルホン酸基もしくはそのアルカリ金属塩から成る群から選ばれる同一または異なる置換基を有するフェニル基であって、該フェニル基はカルボン酸基もしくはそのアルカリ金属塩、水酸基またはスルホン酸基もしくはそのアルカリ金属塩の少なくとも1種で置換されているフェニル基を表す。)
IPC (3件):
C09B 41/00
, C09B 35/035
, C09D 11/02
FI (3件):
C09B 41/00 C
, C09B 35/035
, C09D 11/02
Fターム (10件):
4J039AB08
, 4J039AD18
, 4J039AE01
, 4J039AE06
, 4J039BC41
, 4J039BE12
, 4J039EA38
, 4J039EA42
, 4J039GA02
, 4J039GA03
引用特許: