特許

J-GLOBAL ID：200903066603870553

純水の製造方法

発明者： 田村 真紀夫 ,  鈴木 菜穂子
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-271691
公開番号（公開出願番号）：特開平7-116660
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】 純水中のシリカ濃度を低減すると共に、水の利用効率を高める。【構成】 シリカ濃度が20μgSiO2 /L以下の給水を逆浸透膜装置に供給して、給水を透過水と濃縮水とに逆浸透膜分離する純水の製造方法において、前記逆浸透膜装置の透過水量を給水の供給水量に対して80%以下としてシリカ濃度を低減させる。更に濃縮水をイオン交換処理して逆浸透膜装置の給水に戻すことにより、水の利用効率を高める。

請求項（抜粋）：

シリカ濃度が20μgSiO2 /L以下の給水を逆浸透膜装置に供給して給水を透過水と濃縮水とに逆浸透膜分離する純水の製造方法において、前記逆浸透膜装置の透過水量を給水の供給水量に対して80%以下とすることを特徴とする純水の製造方法。