特許
J-GLOBAL ID：200903066608663882
プラズマ処理装置の静電チャック
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-197756
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037970
出願日： 1993年07月16日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 基板ホルダー内の複数の埋め込み電極を異電位状態と同電位状態とに切り替え可能にして、プラズマが発生していないときにも基板を基板ホルダーに吸着可能にするとともに、プラズマ発生中は基板を均一に吸着させる。【構成】 第1の埋め込み電極20は常に高周波印加電極16に接続されている。基板ホルダー12を上方位置にすると、第2の埋め込み電極21は移動体30を介して高周波印加電極16に接続される。このとき、電極20、21は同電位状態(マイナス500V)となる。プラズマにより基板22に負のセルフバイアス電圧(マイナス約100V)が生じると、誘電体層18の上下に電位差が発生し、基板22は静電力により基板ホルダー12に吸着される。基板ホルダー12を下げると、電極21は電圧導入端子42に接続してマイナス1000Vとなり、電極20は接地状態となる。これにより、やはり基板22は基板ホルダー12に吸着される。
請求項（抜粋）：
真空室内に発生させたプラズマを用いて基板ホルダー上の基板を処理するプラズマ処理装置における静電チャックにおいて、前記基板ホルダーは、互いに電気的に絶縁された複数の埋め込み電極と、これらの埋め込み電極を覆っていてその表面が基板載置面となる誘電体層とを備え、前記複数の埋め込み電極が、互いに同じ電位となる同電位状態と、少なくとも一つの埋め込み電極がその他の埋め込み電極と異なる電位となる異電位状態との間で、電気的に切り替え可能であることを特徴とする静電チャック。
IPC (5件)：
H01L 21/68
, C23C 14/50
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
