特許

J-GLOBAL ID：200903066612337299

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

発明者： 国安 仁
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-168608
公開番号（公開出願番号）：特開2000-003897
出願日： 1998年06月16日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：

【要約】【課題】 枚葉スピン洗浄における乾燥効果の向上、乾燥促進に用い溶媒の量の節減を図る。【解決手段】 基板23を洗浄した後、回転させて基板表面の水滴を振り切り乾燥する基板洗浄方法であって、乾燥時の基板表面に霧化した溶媒31を供給する。

請求項（抜粋）：

基板を洗浄した後、回転させて基板表面の水滴を振り切り乾燥する基板洗浄方法であって、乾燥時の前記基板表面に霧化した溶媒を供給することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 651 L