特許
J-GLOBAL ID:200903066612744846

レジスト剥離および洗浄用の非腐食性組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中林 幹雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-548203
公開番号(公開出願番号):特表2001-523356
出願日: 1998年04月30日
公開日(公表日): 2001年11月20日
要約:
【要約】本発明は、フォトレジスト剥離および洗浄用の非腐食性組成物の合計量の全重量パーセンテージで:(a)N-メチル-ピロリジノン、N-ヒドロキシエチル-2-ピロリジノン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジアセトンアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびそれらの混合物から成る群から選ばれる溶媒約5%ないし約50%;(b)ジエチレングリコールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2-(2-アミノエチルアミノ)エタノールおよびそれらの混合物から成る群から選ばれるアルカノールアミン約10%ないし約90%、(c)式(I)の腐食防止剤約0.1ないし4%(式中、R1-R4は、個別に、水素、1-4個の炭素原子を有するアルキル基、1-4個の炭素原子を有するアルコキシ基、ハロゲン基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基又はそれらの組み合わせから成る群から選ばれる);並びに(d)水約0.1%ないし約40%、から成る前記組成物に関する。
請求項(抜粋):
レジスト剥離および洗浄用の非腐食性組成物において、前記剥離および洗浄用組成物の全重量を基準として、全て重量パーセンテージで: (a)N-メチル-ピロリジノン、N-ヒドロキシエチル-2-ピロリジノン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジアセトンアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびそれらの混合物から成る群から選ばれる溶媒約5%ないし約50%; (b)ジエチレングリコールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2-(2-アミノエチルアミノ)エタノールおよびそれらの混合物から成る群から選ばれるアルカノールアミン約10%ないし約90%、 (c)式(I)の腐食防止剤約0.1ないし4% (式中、R1-R4は、個別に、水素、1-4個の炭素原子を有するアルキル基、1-4個の炭素原子を有するアルコキシ基、ハロゲン基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基から成る群から選ばれる);並びに (d)水約0.1%ないし約40%、から成ることを特徴とするレジスト剥離および洗浄用の非腐食性組成物。
IPC (7件):
G03F 7/42 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  C23G 5/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 647
FI (7件):
G03F 7/42 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  C23G 5/02 ,  H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/30 572 B

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