特許

J-GLOBAL ID：200903066618352982

トランス-シクロヘキサン化合物の製造方法

発明者： 荻原 勤 ,  朝倉 和之 ,  清水 孝明
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： ▲高▼野 俊彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-289351
公開番号（公開出願番号）：特開平9-110883
出願日： 1995年10月11日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】【課題】 反応工程の途中での副生するシス中間体をトランス中間体に効率的に変換し、目的のトランス構造を持つ液晶化合物を経済的に製造する。【解決手段】 一般式(1)で表されるシス-シクロヘキサン化合物を、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノンで脱水素して、一般式(2)で表される化合物を得た後、水素添加することにより、一般式(3)で表されるトランス-シクロヘキサン化合物を製造する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)【化1】(ここでAは【化2】を表し、m及びnは0又は1、Rは炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状アルキル基、炭素数2〜7のアルコキシアルキル基又は炭素数2〜8のアルケニル基を表す。【化3】及び【化4】は、1又は4位のケイ素がH、F、Cl、CH3、フェニル基、トリル基又はアルコキシ基の置換基を持つトランス-1-シラ-1,4-シクロへキシレン基、トランス-4-シラ-1,4-シクロヘキシレン基、モノ又はジフルオロ-1,4-フェニレン基又はトランス-1,4-シクロヘキシレン基を表す。B1及びB2は各々独立に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO、-OCO-、-CH=CH-又は-C≡C-を表す。L1及びL2は各々独立にH又はFを表す。)で表されるシス-シクロヘキサン化合物を、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノンで脱水素して、一般式(2)【化5】で表される化合物を得た後、水素添加することにより、一般式(3)【化6】で表されるトランス-シクロヘキサン化合物を製造する方法。

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/18 ,  C09K 19/40

FI (3件)：

C07F 7/08 R ,  C07F 7/18 R ,  C09K 19/40