特許

J-GLOBAL ID：200903066627648428

マスク検査方法及びマスク検査装置

発明者： 平柳 徳行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (2件)： 渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-257346
公開番号（公開出願番号）：特開2004-094068
出願日： 2002年09月03日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】マスク検査装置で得られるデータの信頼性、及び露光装置による露光精度を向上させることができるマスク検査方法及びマスク検査装置を提供する。【解決手段】マスク検査装置のチャック91b吸着面91cが下向になっており、この面91cにマスク90の保持部50の上面50aが吸着により保持される。このとき、マスクのパターン面90aは上向きになる。マスク検査時と露光時とで、マスク90は同一の面が吸着されるので、マスク検査装置でのマスク90と露光装置でのマスク10とで、保持状態を同じにできる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンが形成されたパターン面、該パターン面を補強する支持体層、及び、該支持体層の周囲に設けられた保持部からなるマスク上のパターンの位置及び/又は欠陥を検査する方法であって、 前記保持部の露光装置で保持される面を保持し、 該露光装置内での該マスクの保持状態とは重力方向が逆となる状態で該マスクを保持しながら検査を行うことを特徴とするマスク検査方法。

IPC (3件)：

G03F1/16 ,  G01N21/956 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F1/16 F ,  G01N21/956 A ,  H01L21/30 541S

Fターム (16件)：

2G051AA56 ,  2G051AB20 ,  2G051BA10 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051DA20 ,  2H095BA01 ,  2H095BA08 ,  2H095BD03 ,  2H095BD04 ,  2H095BD24 ,  2H095BD28 ,  5F056AA22 ,  5F056FA05 ,  5F056FA10