特許
J-GLOBAL ID:200903066636843047
TFT-LCD用の層間絶縁膜用アクリル系共重合体樹脂の製造方法、これを利用した層間絶縁膜及びLCD
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小野 由己男
, 堀川 かおり
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-134172
公開番号(公開出願番号):特開2005-320542
出願日: 2005年05月02日
公開日(公表日): 2005年11月17日
要約:
【課題】TFT-LCDの層間絶縁膜用アクリル系共重合体樹脂の製造方法、およびこれを利用したTFT-LCDの層間絶縁膜を提供すること。【解決手段】i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物又はこれらの混合物、ii)スチレン系単量体、iii)エポキシ系単量体、iv)イソボニル系単量体及び v)ジサイクロペンタジエン系単量体を溶媒下で重合製造した共重合体溶液を精製する工程を含むTFT-LCDの層間絶縁膜用アクリル系共重合体樹脂の製造方法、この方法で製造されたTFT-LCDの層間絶縁膜用アクリル系共重合体樹脂及び前記アクリル系共重合体樹脂を適用したTFT-LCDの層間絶縁膜に関する。本発明により製造したアクリル系共重合体樹脂をTFT-LCD用ポジ型層間絶縁膜に適用することにより膜の現像性及び耐熱性を高めることができ、透過率をも向上させることができる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
層間絶縁膜用アクリル系共重合体樹脂の製造方法であって、
a)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物又はこれらの混合物5〜35重量部、
ii)スチレン系単量体5〜40重量部、
iii)エポキシ系単量体5〜40重量部、
iv)イソボニル系単量体5〜30重量部、
v)ジサイクロペンタジエン系単量体5〜40重量部及び
vi)開始剤0.01〜15重量部
を溶媒下で重合する工程、
b)前記a)工程で得られた反応物に重合禁止剤0.001〜1重量部を加え、重合を完了して共重合体溶液を製造する工程及び
c)前記b)工程で製造した共重合体溶液を精製する工程
を含むことを特徴とするTFT-LCD用の層間絶縁膜用アクリル系共重合体樹脂の製造方法。
IPC (4件):
C08F220/00
, G02F1/1333
, G02F1/1368
, H01L21/312
FI (4件):
C08F220/00
, G02F1/1333 505
, G02F1/1368
, H01L21/312 D
Fターム (54件):
2H090HB07X
, 2H090HB11X
, 2H090HC05
, 2H090HD06
, 2H090LA04
, 2H092JA24
, 2H092KB25
, 2H092MA10
, 2H092NA30
, 4J100AB02Q
, 4J100AB03Q
, 4J100AB04Q
, 4J100AB07R
, 4J100AJ02P
, 4J100AJ08P
, 4J100AJ09P
, 4J100AK31P
, 4J100AK32P
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL09S
, 4J100AL10R
, 4J100AL11S
, 4J100AL66T
, 4J100AQ21T
, 4J100AR28T
, 4J100BA02T
, 4J100BC04S
, 4J100BC08S
, 4J100BC12S
, 4J100BC43S
, 4J100BC45T
, 4J100BC54R
, 4J100CA03
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA04
, 4J100FA19
, 4J100FA28
, 4J100FA30
, 4J100GC07
, 4J100GC35
, 4J100JA32
, 5F058AA05
, 5F058AA10
, 5F058AC06
, 5F058AC07
, 5F058AD07
, 5F058AD08
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AG09
, 5F058AH02
引用特許:
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