特許
J-GLOBAL ID:200903066652968437

安定な有機フリーラジカルの存在下におけるフリーラジカル開始および関連組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小林 浩 ,  片山 英二 ,  大森 規雄 ,  鈴木 康仁
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-547380
公開番号(公開出願番号):特表2007-517120
出願日: 2004年12月24日
公開日(公表日): 2007年06月28日
要約:
本発明は、フリーラジカル反応性ポリマー、有機ペルオキシド、およびグラフト可能で安定な有機フリーラジカルを含む改良されたポリマー組成物を提供する。本発明は、望ましくない分解、または炭素-炭素架橋反応を抑制することを可能にし、前記ポリマーが望ましいグラフト反応を行うことを可能にする。
請求項(抜粋):
(a)フリーラジカル反応性ポリマー、 (b)少なくとも130°Cで測定された半減期がジクミルペルオキシドよりも長い有機ペルオキシド、および (c)グラフト可能で安定な有機フリーラジカル を含むポリマー組成物であって、 前記安定な有機フリーラジカルは、(i)フリーラジカル誘導種の存在下における前記ポリマーの分解を実質的に抑制し、(ii)前記ポリマーがフリーラジカルを生成した後に前記ポリマーにグラフト可能である、ポリマー組成物。
IPC (3件):
C08F 291/00 ,  C08F 2/38 ,  C08F 4/32
FI (3件):
C08F291/00 ,  C08F2/38 ,  C08F4/32
Fターム (34件):
4J011NA02 ,  4J011NB04 ,  4J015BA10 ,  4J015BA13 ,  4J026AA06 ,  4J026AA11 ,  4J026AA12 ,  4J026AA13 ,  4J026AA14 ,  4J026AA17 ,  4J026AA23 ,  4J026AA26 ,  4J026AA37 ,  4J026AA38 ,  4J026AA49 ,  4J026AA67 ,  4J026AA68 ,  4J026AA71 ,  4J026AB44 ,  4J026AC01 ,  4J026AC02 ,  4J026AC03 ,  4J026AC04 ,  4J026AC10 ,  4J026AC11 ,  4J026AC12 ,  4J026AC16 ,  4J026AC32 ,  4J026AC36 ,  4J026BA40 ,  4J026CA06 ,  4J026DB05 ,  4J026DB15 ,  4J026DB26
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る