特許
J-GLOBAL ID：200903066668187087

カラー液晶表示装置製造方法

発明者：
辻村 隆俊

辻村 隆俊 について

, 
蓮見 太郎

蓮見 太郎 について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション について


代理人 (1件)： 坂口 博 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-133891
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330128
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【課題】 ITO電極を、ネガレジストを使用した裏面露光によって形成しながら、ITO電極-データ線オーバラップ長を画素に埋め込まれているカラーレジストの色によらず均等にすることができるカラー液晶表示装置製造方法を提供する。【解決手段】 薄膜トランジスタ構造、ゲート線およびデータ線を形成した透明基板上に複数色の着色層を形成し、前記着色層を形成した透明基板上全面に透明導電膜を形成し、前記透明導電膜上全面にネガレジストを塗布し、前記ゲート線およびデータ線をフォトマスクとして前記透明基板の背面の光源より390nmないし440nmの波長帯を実際的に含まない光で前記ネガレジストを露光し、前記露光したネガレジストを現像およびベークし、前記ネガレジストが除去された部分の前記透明電極膜をエッチングして除去する。
請求項（抜粋）：
カラー液晶表示装置の製造方法において、薄膜トランジスタ構造、ゲート線およびデータ線を形成した透明基板上に複数色の着色層を形成する工程と、前記着色層を形成した透明基板上全面に透明導電膜を形成する工程と、前記透明導電膜上全面にネガレジストを塗布する工程と、前記ゲート線およびデータ線をフォトマスクとして前記透明基板の背面の光源より390nmないし440nmの波長帯を実際的に含まない光で前記ネガレジストを露光する工程と、前記露光したネガレジストを現像およびベークする工程と、前記ネガレジストが除去された部分の前記透明電極膜をエッチングして除去する工程とを含むことを特徴とするカラー液晶装置製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343
FI (2件)：
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343
Fターム (26件)：
2H092JA26 ,  2H092JA29 ,  2H092JA38 ,  2H092JA42 ,  2H092JA44 ,  2H092JA46 ,  2H092JB13 ,  2H092JB23 ,  2H092JB32 ,  2H092JB33 ,  2H092JB38 ,  2H092JB51 ,  2H092JB56 ,  2H092JB63 ,  2H092JB69 ,  2H092KB14 ,  2H092MA14 ,  2H092MA15 ,  2H092MA16 ,  2H092MA18 ,  2H092MA19 ,  2H092MA20 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092NA29 ,  2H092PA08
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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