特許

J-GLOBAL ID：200903066686164582

水素含有ガス生成装置

発明者： 神家 規寿 ,  平井 一裕 ,  東口 誠作 ,  立森 正史
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-330975
公開番号（公開出願番号）：特開2000-159501
出願日： 1998年11月20日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】 小型化並びに低価格化し得ると共に、水素含有ガス製造コストを低減し得る水素含有ガス生成装置を提供する。【解決手段】 水を加熱により蒸発させる水蒸気生成部2と、その水蒸気生成部2にて生成される水蒸気と炭化水素系の原燃料ガスとが供給されて、それらを改質反応させて水素ガスを含有するガスを生成する改質処理部3と、改質処理部3及び水蒸気生成部2を加熱する加熱部Hとが、ユニット状に一体的に形成されている。

請求項（抜粋）：

水を加熱により蒸発させる水蒸気生成部と、その水蒸気生成部にて生成される水蒸気と炭化水素系の原燃料ガスとが供給されて、それらを改質反応させて水素ガスを含有するガスを生成する改質処理部と、前記改質処理部及び前記水蒸気生成部を加熱する加熱部とが、ユニット状に一体的に形成されている水素含有ガス生成装置。

IPC (2件)：

C01B 3/34 ,  H01M 8/06

FI (2件)：

C01B 3/34 ,  H01M 8/06 G

Fターム (9件)：

4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB01 ,  4G040EB12 ,  4G040EB44 ,  4G040EC08 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027BA17