特許

J-GLOBAL ID：200903066695302530

印液浸透式スタンプ

発明者： 谷川 正夫
出願人/特許権者： 谷川商事株式会社 ,  ヤマハチケミカル株式会社
代理人 (1件)： 菊池 武胤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085150
公開番号（公開出願番号）：特開平6-270522
出願日： 1993年03月22日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：

【要約】 (修正有)〔目的〕 印面部材の印面全域に略均等な押印力が働き、べたつきのない鮮明かつ均質な印影が得られる新規な印液浸透式スタンプを提供する。〔構成〕 印版体ケース内下端に印面部材を装着し、印版体ケース内部に印液ボックスを形成し印液含浸タンク部材を収容して構成した印版体と、この印版体を上下動可能に収容した外ケースとからなり、上記印版体の外側と外ケースとの間に印版体全域に略均等な垂直方向の弾圧力がかかる弾性体を介在させ、印版体の印版体ケース上面と外ケースの中間の水平壁との間に略全面に配置して弾性マットを介在させてある。

請求項（抜粋）：

印版体ケース内下端に印面部材を装着し、印版体ケース内部に印液ボックスを形成し印液含浸タンク部材を収容して構成した印版体と、この印版体を上下動可能に収容した外ケースとからなり、上記印版体の外側と外ケースとの間に印版体全域に略均等な垂直方向の弾圧力がかかる弾性体を介在させ、印版体の印版体ケース上面と外ケースの中間の水平壁との間に略全面に配置して弾性マットを介在させてあることを特徴とする印液浸透式スタンプ。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 押し印具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-349725   出願人：株式会社カイテック