特許
J-GLOBAL ID：200903066699757337
プラズマ蒸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-152198
公開番号（公開出願番号）：特開平7-011431
出願日： 1993年06月23日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：
【要約】【目的】グリッドと対向電極との間の空間領域に良好にプラズマ生成できる新規なプラズマ蒸着装置を実現する。【構成】グリッド6から見て対向電極5の背後側に導入ガス排気用の排気口22aを配し、導入ガスの導入部21aをグリッド6に関し熱電子放出用のフィラメント7と同じ側に配することにより、グリッド6と対向電極5との間に、グリッド6から対向電極5へ向かう電界と略平行な導入ガスの流れが形成されるように構成した。
請求項（抜粋）：
真空槽内にグリッドと対向電極とを対面的に対向させて配置し、上記グリッドに関して対向電極と反対側に熱電子放出用のフィラメントを配し、上記グリッドと対向させて上記対向電極に被蒸着基板を保持させ、材料蒸気を上記真空槽内にて発生させもしくは真空槽外部から導入し、真空槽外部から活性ガスおよび/または不活性ガスを導入ガスとして導入し、上記グリッドから対向電極へ向かう電界を発生させ、グリッドと被蒸着基板との間にプラズマを生成しつつ、上記材料蒸気をイオン化し、所望の薄膜を被蒸着基板上に蒸着形成するプラズマ蒸着装置において、グリッドから見て対向電極の背後側に導入ガス排気用の排気口を配し、導入ガスの導入部をグリッドに関し熱電子放出用のフィラメントと同じ側に配することにより、上記グリッドと対向電極との間に、グリッドから対向電極へ向かう電界と略平行な導入ガスの流れが形成されるように構成したことを特徴とするプラズマ蒸着装置。
IPC (3件)：
C23C 14/32
, H01L 21/203
, H01L 21/205
