特許

J-GLOBAL ID：200903066706785180

プラズマ処理装置

発明者： 佐々木 真 ,  窪田 傑 ,  福田 航一 ,  山田 一彦
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-069473
公開番号（公開出願番号）：特開平9-324260
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：

【要約】【課題】 大面積な基体に対して、短時間で、均一な除電処理が可能なプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 本発明のプラズマ処理装置は、減圧の基体処理室104と減圧の電離気体発生室107との間に、開閉部114を基体処理室104にて処理されるべき基体130に臨ませて設け、開閉部114を通して電離気体発生室107から基体処理室104へ陽イオンと電子とを供給できるようにすることによって、基体処理室104を減圧状態に保ったまま基体130の除電をするようにしたことを特徴とする。また、基体処理室104に対して電離気体発生室107が、水平方向に隣接して設けられる。さらに、基体処理室104の内圧を電離気体発生室107の内圧に対して低くする。

請求項（抜粋）：

減圧の基体処理室と減圧の電離気体発生室との間に、開閉部を前記基体処理室にて処理されるべき基体に臨ませて設け、前記開閉部を通して前記電離気体発生室から前記基体処理室へ陽イオンと電子とを供給できるようにすることによって、基体処理室を減圧状態に保ったまま基体の除電をするようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

C23C 14/22 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

C23C 14/22 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 N

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-240947
  
• 特開平3-240947