特許
J-GLOBAL ID：200903066716581620
ガス噴射ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-049676
公開番号（公開出願番号）：特開平10-226885
出願日： 1997年02月17日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 ガス噴射面から原料ガスを均一に噴射させることができ、優れた加熱保温機能を有し、製造のために工数が少なくて済み、且つ原料ガス流路と加熱媒体流路のシールを完全にできるガス噴射ヘッドを提供すること。【解決手段】 薄膜気相成長装置に用いるガス噴射ヘッドであって、ノズル本体10に加熱液媒体を流す加熱液媒体流路を上下2段に設け、上段の加熱液媒体流路Bと下段の加熱液媒体流路B’はそれを流れる加熱液媒体が略直交する方向に流れるように配置され、ノズル本体10の外周部に加熱液媒体の集合流出入する加熱液媒体集合流路Dを設けた。
請求項（抜粋）：
平板状のノズル本体に設けた多数のノズル孔を通し成膜ガスを均一に分配する薄膜気相成長装置に用いるガス噴射ヘッドであって、前記ノズル本体に加熱液媒体を流す加熱液媒体流路を上段と下段に設けたことを特徴とするガス噴射ヘッド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 D
, C23C 16/18
