特許
J-GLOBAL ID：200903066742617218
フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩佐 義幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-330998
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165194
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】【目的】 孤立パタンをパタンの一部として有するフォトマスクを投影露光する場合、転写パタンの解像度を向上させ、なおかつ作成が簡便なフォトマスクを提供する。【構成】 第1の開口部の周辺部分に微細な第2の開口部を形成し、結像面上での第1の開口部に対応する位置において第1の開口部を透過した光と第2の開口部を透過した光とが光強度分布を鋭くするように干渉するようにする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光膜を設け、その遮光膜を部分的に除去して開口部を形成したフォトマスクにおいて、第1の開口部の周辺部分に微細な第2の開口部を形成し、結像面上での前記第1の開口部に対応する位置において前記第1の開口部を透過した光と上記第2の開口部を透過した光とが光強度分布を鋭くするように干渉することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 L
