ウェーハ計測のための方法及び装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-606954
公開番号（公開出願番号）：特表2002-540388
出願日： 2000年03月22日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：

【要約】この発明は、計測を画像化するための装置であり、該装置は、特別の実施例では計測ステーションが処理ステーションから離間されているが、これに接続されるように、処理ステーションと一体化されてもよい。計測ステーションには、測定領域を含む第一の視野を持った第一の撮像カメラが設けられている。別の実施例は、第二の視野を持った第二の撮像カメラを含んでいる。好ましい実施例は、広帯域紫外線源を備えているが、他の実施例は、広帯域または狭帯域光学バンド幅の可視または近赤外光源を有していてもよい。広帯域バンド幅光源を含む実施例は、典型的には、スペクトルグラフ、または画像スペクトルグラフを含んでいる。特別の実施例は、液体で濡れた湾曲した反射光学系または測定領域を含んでいてもよい。典型的な実施例において、計測ステーションおよび測定領域は、相互に運動の自由度4を有するように構成される。

請求項（抜粋）：

表面の測定領域から情報を受け取る計測ユニットと、前記測定領域を含む第1視野を有する第1結像カメラとを備えていることを特徴とする表面計測デバイス。

IPC (4件)：

G01B 11/24 , G01B 11/06 , H01L 21/66 , H01L 21/68

FI (5件)：

G01B 11/06 Z , H01L 21/66 J , H01L 21/66 P , H01L 21/68 P , G01B 11/24 K

Fターム (54件)：

2F065AA30 , 2F065AA56 , 2F065BB02 , 2F065BB23 , 2F065CC19 , 2F065FF01 , 2F065GG03 , 2F065GG04 , 2F065LL04 , 2F065LL30 , 2F065PP04 , 2F065PP13 , 4M106AA01 , 4M106AA12 , 4M106BA07 , 4M106CA38 , 4M106CA48 , 4M106DH03 , 4M106DH12 , 4M106DJ02 , 4M106DJ04 , 5F031CA02 , 5F031CA11 , 5F031CA13 , 5F031FA01 , 5F031FA12 , 5F031GA06 , 5F031GA38 , 5F031HA05 , 5F031HA09 , 5F031HA12 , 5F031HA13 , 5F031HA32 , 5F031HA44 , 5F031HA45 , 5F031HA46 , 5F031HA48 , 5F031HA59 , 5F031JA02 , 5F031JA04 , 5F031JA06 , 5F031JA13 , 5F031JA15 , 5F031JA17 , 5F031JA32 , 5F031JA35 , 5F031JA36 , 5F031JA37 , 5F031JA38 , 5F031KA03 , 5F031KA11 , 5F031KA12 , 5F031MA22 , 5F031MA33

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭61-099845
特開昭61-099845

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