特許
J-GLOBAL ID：200903066760483750
純水又は超純水の製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本多 小平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-240232
公開番号（公開出願番号）：特開平8-084986
出願日： 1994年10月04日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】 ほう素濃度を低減した純水又は超純水の製造に有効な装置を提供する。【構成】 膜処理手段等を備えて前処理装置1の処理水から純水を得る1次純水処理系と、この1次純水を貯水するタンク9と、イオン交換手段,膜処理手段等を備えて該タンク9を経た1次純水から超純水を得る2次純水処理系とからなり、上記ほう素選択性イオン交換樹脂を、1次純水処理系中の2床3塔式イオン交換装置3のK塔内に強酸性陽イオン交換樹脂の上流に位置するように積層して設ける。
請求項（抜粋）：
原水に含まれる懸濁物質を除去する前処理に続き、該前処理済み処理水についてイオン及び非イオン性物質を除去する純水処理を行って純水又は超純水を製造する方法において、上記前処理済み処理水に含まれるほう素の除去のために上記純水処理をする工程中のいずれかの段階で該前処理済み処理水をほう素選択性イオン交換樹脂に接触させることを特徴とする純水又は超純水の製造方法。
IPC (4件)：
C02F 1/42
, B01J 47/02
, C02F 1/32
, C02F 1/44
