特許
J-GLOBAL ID：200903066763286190
レジスト膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-206922
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168362
出願日： 1986年11月20日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】 ウェハ上にレジスト膜形成後のレジスト膜の無駄な露光及び現像を無くし、レジスト膜不良による再生ウェハの活用を早期にできるレジスト形成装置を得る。【構成】 プリベークされたウェハ(1) 上のレジスト膜(3) の測定に基づき、レジスト塗布装置の塗布回転数について修正が必要かどうかの判断がなされると、ウェハ(1) 上のレジスト膜(3) の膜厚が適性値であるか否かを示す膜厚適性信号をウェハ搬出手段(14)に出力する。ウェハ搬出手段(14)は、受けた膜厚適性信号が適性値であることを意味すると良品とし、適性値でないことを意味すると不良品として、ステージ(5) に載置されたウェハ(1) を良品、不良品別に搬出する。良品として搬出されたウェハ(1) は次工程である、露光工程、現像工程へと進み、不良品として搬出されたウェハ(1) は、レジスト膜(3) を除去され、再度レジスト塗布装置に送られてレジストが塗布される。
請求項（抜粋）：
ウェハ上にレジスト膜を塗布するレジスト塗布装置、このレジスト塗布装置にてウェハ上に塗布されたレジスト膜をプリベークするプリベーク装置、このプリベーク装置にてプリベークされたウェハ上のレジスト膜の膜厚を検出し、そのレジスト膜の膜厚が適性値であるか否かを示す膜厚適性信号を出力する膜厚判断手段、この膜厚判断手段からの膜厚適性信号を受け、この膜厚適性信号が適性値であることを意味すると良品とし、適性値でないことを意味すると不良品として上記レジスト膜がプリベークされたウェハを良品、不良品別に搬出するウェハ搬出手段を備えたレジスト膜形成装置。
IPC (4件)：
G03F 7/16 502
, B05C 11/08
, H01L 21/027
, B05D 1/40
