特許

J-GLOBAL ID：200903066766591236

スピロ[4.4]ノナシランおよびそれを含有する組成物

発明者： 江幡 敏 ,  松木 安生
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-164102
公開番号（公開出願番号）：特開2001-348219
出願日： 2000年06月01日
公開日（公表日）： 2001年12月18日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 新規なスピロシラン化合物、その用途や利用法を提供すること。【解決手段】 新規化合物であるスピロ[4.4]ノナシランは、ヘキサデカフェニルスピロ[4,4]ナノシランをルイス酸の存在下、塩化水素ガスと反応せしめてヘキサデカクロロスピロ[4,4]ナノシランを生成せしめ、次いでこれを水素化するスピロ[4,4]ナノシランとする方法、その用途、それを含有する組成物およびこの組成物を利用して水素化ケイ素化合物を出発シリコン源として支持体上にシリコン膜を形成する方法。

請求項（抜粋）：

(1)下記式(A)【化1】で表されるスピロ[4.4]ノナシラン。

IPC (2件)：

C01B 33/04 ,  C01B 33/02

FI (2件)：

C01B 33/04 ,  C01B 33/02 D

Fターム (9件)：

4G072AA05 ,  4G072BB09 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072JJ14 ,  4G072KK01 ,  4G072RR01 ,  4G072UU01 ,  4G072UU02