特許
J-GLOBAL ID:200903066769983577

不良解析方法およびそのシステム並びに歩留り成分のシミュレーション方法および仮想歩留り算出方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-342913
公開番号(公開出願番号):特開2001-160572
出願日: 1999年12月02日
公開日(公表日): 2001年06月12日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】半導体チップ製造の良品割合(歩留り)をその原因別に効率的に、不良解析を行うシステムを提供する。【解決手段】チップ配置定義部5で定義したウェハ上のチップ配置をグルーピングパターン定義部で隣接するチップ同士をどのようにグループ化するかを決定し、シミュレーション部で不良発生の仮想的なカテゴリマップを生成する。歩留成分分離部は隣接するn個のチップ同士をまとめた元のn倍のチップ面積とカテゴリマップの歩留りから数学的な論理に基きウェハ上でランダムに発生する異物による不良と連続して発生するプロセスによる不良の2種類の歩留り成分を求める。
請求項(抜粋):
指定されたランダム不良と連続不良の各不良に関連した歩留り成分並びに定義されたベース素材上に配設される多数の素子の配置情報を元に、前記多数の素子に対してランダム不良および連続不良を発生させ、これら発生された多数の素子に対するランダム不良と連続不良とを合成して良品素子および不良品素子の配列からなる仮想の基本カテゴリマップを作成し、この作成された仮想の基本カテゴリマップに対して複数種類のグルーピングパターンでグループ化した複数の仮想のグループカテゴリマップを作成し、これら作成された各仮想のグループカテゴリマップから得られる歩留りおよびグループパターンの面積に応じたデータを元に、ランダム不良に関連した歩留り成分と連続不良に関連した歩留り成分とを分離して求め、この求められた各歩留り成分と前記指定した各歩留り成分を比較することにより前記求められた歩留り成分の確からしさを算出するシミュレーション過程と、実際のベース素材上に配設される多数の素子に対するプローブ検査で得られる良品素子および不良品素子の配列からなる基本カテゴリマップを作成し、この作成された基本カテゴリマップに対して複数種類のグルーピングパターンでグループ化した複数のグループカテゴリマップを作成し、これら作成された各グループカテゴリマップから得られる歩留りおよびグルーピングパターンの面積に応じたデータを元に、ランダム不良に関連した歩留り成分と連続不良に関連した歩留り成分とを分離して求め、この求められた各歩留り成分を元に前記シミュレーション過程で算出された確からしさを参照して実際のベース素材上に配設される多数の素子に対して不良解析を行う不良解析過程とを有することを特徴とする不良解析方法。
IPC (2件):
H01L 21/66 ,  G11C 29/00 655
FI (2件):
H01L 21/66 A ,  G11C 29/00 655 Z
Fターム (8件):
4M106AA02 ,  4M106CA41 ,  4M106CA48 ,  4M106DD01 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5L106DD25 ,  5L106DD26

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