特許
J-GLOBAL ID：200903066771116520
走査光学系におけるスポットサイズ狭小化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-112173
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281484
出願日： 1992年04月03日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 Fナンバーを小さくすることなく、スポットサイズを小さくすることができる走査光学系におけるスポットサイズ狭小化方法を提供する。【構成】 半導体レーザ1とポリゴンミラー8との間で、半導体レーザ1からのレーザービームLを2本に分割し、それら分割レーザービームL1 、L2 のうち一方の分割レーザービームL2 を部分遮光し、光合成器5(ビーム合成位置)に導くとともに、部分遮光を受けない残りの分割レーザービームL1 を光合成器5に導いて、合成ビームL ́を形成した後、その合成ビームL ́をポリゴンミラー8に入射する。
請求項（抜粋）：
レーザービームを出射する光源と、前記光源からのレーザービームを偏向する偏向器と、前記偏向器によって偏向されたレーザービームのスポットを像面上に形成する走査レンズとを備えた走査光学系におけるスポットサイズ狭小化方法であって、前記光源と前記偏向器との間で、前記光源からのレーザービームを複数本に分割し、それら分割レーザービームのうち少なくとも1本以上の分割レーザービームを部分遮光し、ビーム合成位置に導くとともに、部分遮光を受けない残りの分割レーザービームを前記ビーム合成位置に導いて、合成ビームを形成した後、その合成ビームを前記偏向器に入射することを特徴とする走査光学系におけるスポットサイズ狭小化方法。
IPC (2件)：
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