炭素膜が形成された部材

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-058570
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290776
出願日： 1988年03月02日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】磁気ヘッドや磁気ディスク等の表面を摺動する電気用部材の保護材として、被形成面に対して損傷を与えることなく、ダイヤモンドに近い高硬度のアモルファスまたはセミアモルファス炭素膜を形成した部材を得る。【解決手段】被形成面から離れるに従って、段階的または連続的に高周波電力を増加させることにより、次第に硬度が高められた炭素膜を形成し、表層部においては、2000kg/mm2以上のビッカース硬度を有するアモルファスまたはセミアモルファス構造の炭素膜を形成された部材を得る。

請求項（抜粋）：

有機樹脂、ガラス、磁性体、金属、セラミックまたは半導体からなる被形成面上に炭素膜が形成された部材であって、前記炭素膜は、sp3混成軌道をもつ炭素を有し、アモルファスまたはセミアモルファス構造を有し、前記被形成面から離れるに従って連続的に硬度が高められ、2000Kg/mm2以上のビッカース硬度を有することを特徴とする炭素膜が形成された部材。

IPC (4件)：

C23C 16/27 , C01B 31/02 101 , G11B 5/187 , G11B 5/72

FI (4件)：

C23C 16/27 , C01B 31/02 101 Z , G11B 5/187 K , G11B 5/72

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭63-004068
特開昭60-184681
特開昭62-157602

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