特許

J-GLOBAL ID：200903066782252727

露光方法及び露光装置

発明者： 安達 直泰
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223801
公開番号（公開出願番号）：特開平10-070060
出願日： 1996年08月26日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 解像度が高く、かつ複雑なパターンの露光も容易に実現でき、被露光材の微細加工が可能である露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 露光光として、少なくとも2つの露光光を用い、各露光光はそれぞれ別個のレチクルA,Bを独立に透過したものであり、該少なくとも2つの露光光は被露光材(ウェハ6)に照射される時点において、互いに偏向方向が異なる(たとえば直交する)ものとした露光方法及び露光装置。

請求項（抜粋）：

露光光として、少なくとも2つの露光光を用い、各露光光はそれぞれ別個のレチクルを独立に透過したものであり、該少なくとも2つの露光光は被露光材に照射される時点において、互いに偏向方向が異なるものであることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A