特許
J-GLOBAL ID：200903066787271061
粒度分布測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 正紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-022259
公開番号（公開出願番号）：特開平5-215662
出願日： 1992年02月07日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】微粒子群に照射されたレーザ光の回折パターンに基づいて、この微粒子群の粒度分布を測定する粒度分布測定装置に関し、光学的調整を容易化する。【構成】所定の原点を中心として同心的に複数に分割され、及び/又は所定の原点を中心として角度2π/n(nは3以上の正の整数)だけ回転する毎に回転前のパターンと一致する複数に分割された受光面を有し、これら複数の受光面で0次光を受光する第1の光センサ46と一体的に移動される第2の光センサ54と、この第2の光センサ54の受光面上に、第1の光センサ46の受光面と同一もしくは該受光面と共役な面に形成される0次光のスポットを結像させる結像光学系と、受光光学系又は第1および第2の光センサを光軸方向及び/又は光軸と直交する方向に相対的に移動させる調整機構56とを備えた。
請求項（抜粋）：
レーザ光源と、該レーザ光源から発せられたレーザ光を微粒子群に照射する照射光学系と、前記微粒子群による、0次光を除く回折光を受光する第1の光センサと、前記微粒子群による回折パターンが前記第1の光センサの受光面に形成されるように前記微粒子群を通過したレーザ光を前記第1の光センサに導く受光光学系と、前記第1の光センサにより受光された回折パターンに基づいて前記微粒子群の粒度分布を求める演算手段とを備えた粒度分布測定装置において、所定の原点を中心として角度2π/n(nは3以上の正の整数)だけ回転する毎に回転前のパターンと一致するように複数に分割された受光面を有しこれら複数の受光面で前記0次光を受光する、前記第1の光センサと一体的に移動される第2の光センサと、前記受光光学系又は前記第1および第2の光センサを光軸と直交する方向に相対的に移動させる調整機構とを備えたことを特徴とする粒度分布測定装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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