特許
J-GLOBAL ID:200903066788369979
ラジカル処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉武 賢次 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-126950
公開番号(公開出願番号):特開2003-320373
出願日: 2002年04月26日
公開日(公表日): 2003年11月11日
要約:
【要約】【課題】 ラジカルを有効活用し、排水中に含まれる難分解性有機物の分解効率の向上を図る。【解決手段】 本発明のラジカル処理装置は、難分解性有機物を含有し得る排水を噴出する噴出ノズル(3)と、この噴出ノズルから噴出された霧状の排水を高電界にさらすための少なくとも一対の放電電極(4,6)と、この放電電極に放電のための高電圧を印加する高圧電源(8)とを備える。
請求項(抜粋):
難分解性有機物を含有し得る排水を噴出する噴出ノズルと、この噴出ノズルから噴出された霧状の排水を高電界にさらすための少なくとも一対の放電電極と、この放電電極に放電のための高電圧を印加する高圧電源とを備えたラジカル処理装置。
Fターム (10件):
4D061DA08
, 4D061DB19
, 4D061DC08
, 4D061EA13
, 4D061EB02
, 4D061EB09
, 4D061EB34
, 4D061EB35
, 4D061ED06
, 4D061ED20
引用特許: