特許

J-GLOBAL ID：200903066805848290

ポリロタキサンの製造方法

発明者： 高田 十志和 ,  木原 伸浩 ,  樋上 和馬
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン
代理人 (1件)： 杉村 興作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-310144
公開番号（公開出願番号）：特開2005-075979
出願日： 2003年09月02日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】置換シクロデキストリンと末端に水酸基を有するポリマーとから形成した擬ポリロタキサンにエンドキャップしてポリロタキサンを製造するための新規の方法を提供する。【解決手段】(i)水酸基がエンドキャップ剤と反応しない基に置換されたシクロデキストリンと両末端が水酸基の直鎖状ポリマーとから擬ポリロタキサンを生成させ、(ii)該擬ポリロタキサンとエンドキャップ剤とを固相反応させることを特徴とし、好ましくは、加圧しながら混合して固相反応させることを特徴とするポリロタキサンの製造方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(i)水酸基がエンドキャップ剤と反応しない基に置換されたシクロデキストリンと両末端が水酸基の直鎖状ポリマーとから擬ポリロタキサンを生成させ、(ii)該擬ポリロタキサンとエンドキャップ剤とを固相反応させることを特徴とするポリロタキサンの製造方法。

IPC (1件)：

C08B37/16

FI (1件)：

C08B37/16

Fターム (5件)：

4C090AA05 ,  4C090BA11 ,  4C090CA35 ,  4C090CA38 ,  4C090CA46