特許
J-GLOBAL ID:200903066808349686

シリコンウエハ支持装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 富田 和夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-084850
公開番号(公開出願番号):特開平10-284427
出願日: 1997年04月03日
公開日(公表日): 1998年10月23日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 シリコンウエハを拡散処理するためのシリコンウエハ支持装置を提供する。【解決手段】 シリコンウエハ4を支持するための溝5を設けた複数の保持ロッド2と、この複数の保持ロッド2の両端を固定するための端板3,3′からなるシリコンウエハ支持装置1において、前記複数の保持ロッド2はいずれもシリコンウエハ4と同じ量のドーパントを含む単結晶シリコンまたは多結晶シリコンからなり、端板はいずれもシリコンウエハと同じ量のドーパントを含む単結晶シリコンからなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
シリコンウエハを支持するための溝を設けた複数の保持ロッドと、この複数の保持ロッドの両端を着脱自在に固定するための端板からなるシリコンウエハ支持装置において、前記複数の保持ロッドと端板は、いずれもシリコンウエハと同じ量のドーパントを含むシリコンからなることを特徴とするシリコンウエハ支持装置。
IPC (3件):
H01L 21/22 511 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/68
FI (3件):
H01L 21/22 511 G ,  H01L 21/22 511 M ,  H01L 21/68 N

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