基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小野由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-271491
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130618
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】異なる処理液を別々に回収し、しかも装置の高さを抑える。【構成】基板現像装置は、少なくとも2種の処理液(現像液,洗浄液)を基板Pに供給して基板処理を行う装置であり、基板保持部1と洗浄液供給ノズル2と現像液供給ノズルと第1カップ4と第2カップ5と振り分け機構6とを備えている。基板保持部1は基板Pを水平方向に保持して回転させる。洗浄液供給ノズル2は基板Pに洗浄液を供給する。現像液供給ノズルは基板Pに現像液を供給する。第1カップ4は、基板保持部1の下方において洗浄液を回収する。第2カップ5は、第1カップ4よりも外周側において現像液を回収する。振り分け機構6は、水平方向に移動することで、基板Pから放射状に離れる洗浄液または現像液を対応する第1カップ4または第2カップ5に振り分ける。

請求項（抜粋）：

互いに種類の異なる第1及び第2の液を時をずらせて基板に供給して基板処理を行う基板処理装置であって、前記基板を水平方向に保持して回転させる基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板に第1液を供給する第1液供給手段と、前記基板保持部に保持された前記基板に第2液を供給する第2液供給手段と、前記基板保持部の下方において第1液を回収する第1回収部と、前記基板保持部の下方でかつ前記第1回収部よりも外周側において第2液を回収する第2回収部と、前記基板保持部により回転させられる前記基板から飛散する第1液を前記第1回収部に導くとともに、その状態から水平方向に移動することにより、同じく前記基板から飛散する第2液を前記第2回収部に導く振り分け部と、を備えた基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , G03F 7/30 502

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C , H01L 21/30 569 E

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