特許

J-GLOBAL ID：200903066817024250

部分的に保護されたフェノール樹脂の製造法

発明者： カール-ローレンツ・メルテスドルフ ,  ベルトルト・ナータル ,  ハンス-ヨルク・キルナー
出願人/特許権者： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-330238
公開番号（公開出願番号）：特開平8-231638
出願日： 1995年12月19日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：

【要約】【課題】 フォトレジストに用いる酸に不安定なアセタールまたはケタール保護基を有するフェノール樹脂を製造するための方法の提供。【解決手段】 酸触媒の存在下でフェノール樹脂とエノールエーテルとを反応させ、次いで反応混合物を塩基性アニオン交換体で処理して耐熱性重合体を得て、これを酸フォトジェネレーターと組合わせて保存寿命が著しく改善された高い加工安定性の放射線感受性組成物とする。

請求項（抜粋）：

酸触媒の存在下でフェノール樹脂とエノールエーテルとを反応させ、次いで反応混合物を塩基性アニオン交換体で処理することによって、酸に不安定なアセタールまたはケタール保護基を有するフェノール樹脂を製造する方法。

IPC (4件)：

C08F 8/28 MGY ,  C08G 8/36 NBL ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/312

FI (4件)：

C08F 8/28 MGY ,  C08G 8/36 NBL ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/312