特許

J-GLOBAL ID：200903066817451825

基板洗浄装置

発明者： 松村 吉雄 ,  嶋治 克己
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-041088
公開番号（公開出願番号）：特開平7-249605
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】【目的】 処理プロセスの数を増加させても装置全長を長くすることなく、効率良く、しかも良好な洗浄効果を得ることが可能な基板洗浄装置を提供する。【構成】 搬送機構6により基板Wが起立姿勢のままで上下方向に搬送されるとともに、基板Wの搬送経路Lに沿ってブラシ洗浄部10、第1および第2超音波洗浄部20,30および純水リンス部40が配置されているため、処理プロセスが増加したとしても装置全長は一定である。第1および第2超音波洗浄部20,30および純水リンス部40がブラシ洗浄部10の上方位置に配置されるため、第1および第2超音波洗浄部20,30および純水リンス部40で使用される純水がブラシ洗浄部10に自由落下で供給される。その結果、純水を効率良く使用することができ、装置全体での純水使用量を抑制することができる。

請求項（抜粋）：

基板を起立姿勢に保持しつつ上下方向に搬送させる搬送手段と、前記搬送手段による基板の搬送経路に沿って設けられ、前記搬送手段によって搬送される基板の少なくとも一方主面に洗浄ブラシを接触させて当該主面を洗浄するブラシ洗浄手段と、前記ブラシ洗浄手段の上方位置で、しかも前記搬送経路に沿って設けられ、前記搬送手段によって搬送される前記基板の前記主面に純水を供給して前記主面を洗浄する純水洗浄手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 361 ,  B08B 7/04 ,  H01L 21/68