特許

J-GLOBAL ID：200903066817487820

プラズマ装置用ダミーウエハ

発明者： 民谷 直幹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-191396
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045751
出願日： 1995年07月27日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ耐性を有するとともに、静電荷が帯電可能なプラズマ装置用ダミーウエハを得、静電チャックを備えたプラズマ装置でのダミーウエハの使用を可能とする。【解決手段】 静電荷が帯電可能な帯電体3を、導電体、半導体、若しくは誘電体のいずれかで形成する。帯電体3の収容が可能な凹部7を有した被覆材5を、プラズマ耐性を有する材料で形成する。同一形状である一組のこの被覆材5、5を用いて、凹部7に帯電体3を収容して接合し、プラズマ装置用ダミーウエハ1を構成する。

請求項（抜粋）：

各種プラズマ装置でプラズマクリーニングやダミー処理を行う際に使用されるプラズマ装置用ダミーウエハであって、導電体、半導体、若しくは誘電体のいずれかからなる帯電体と、プラズマ耐性を有する材料からなり該帯電体を収容する凹部が形成され該凹部に該帯電体を収容して接合される同一形状の一組の被覆材とを具備したことを特徴とするプラズマ装置用ダミーウエハ。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

H01L 21/68 N ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B