特許

J-GLOBAL ID：200903066826235825

イソブチレン系重合体の単離方法

発明者： 藤沢 博 ,  出口 義国 ,  田村 正信 ,  硲 淳一 ,  池田 勉 ,  野田 浩二 ,  石動 正和 ,  和地 俊
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 熊田 和生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-085890
公開番号（公開出願番号）：特開平8-073517
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 テレケリックなイソブチレン系重合体を、非水系で単離することにより、溶剤の溶解した排水の発生を防ぎ、より有利なテレケリックな不飽和基を有するイソブチレン系重合体の製造法の提供。【構成】 一般式(I):MXn (I)〔Mは金属原子を、nは2〜6。Xはハロゲン原子または1価の炭化水素基。〕で表される触媒を使用するカチオン重合反応において、重合後触媒の配位子交換反応をおこなった後Mを含有する成分を非水系で除去、上記触媒を使用するカチオン重合反応において、酸吸着能を有する吸着体を用いて触媒を非水系で除去、および上記触媒を使用するカチオン重合反応後、重合体末端の脱HCl反応および触媒の配位子交換反応を行ってから、Mを含有する成分を非水系で除去するイソブチレン系重合体の単離方法。

請求項（抜粋）：

一般式(I):MXn (I)〔式中、Mは金属原子を、nは2以上6以下の整数を示す。Xはハロゲン原子または1価の炭化水素基を示し、それぞれ同じでも異なってもよい。〕で表される触媒を使用するカチオン重合反応において、重合後触媒の配位子交換反応をおこなった後に一般式(I)中のMを含有する成分を非水系で除去することを特徴とするイソブチレン系重合体の単離方法

IPC (3件)：

C08F 6/08 MFM ,  C08F 6/08 MFK ,  C08F 4/06 MEH

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平1-261405