特許

J-GLOBAL ID：200903066832990856

高品質膜の製膜装置

発明者： 竹原 幹夫
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-241605
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090557
出願日： 1993年09月28日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：

【要約】【構成】アノード電極2とは別に製膜用原料発生源を持ち、製膜用原料発生源と基板との間を直線でむすんで形成される空間と、プラズマの発生源1とアノード電極2との間を直線でむすんで形成される空間とが一部を共有するように配置された製膜装置。【効果】本発明の装置を用いて製膜された膜は、長期間高温多湿の環境下に放置しても、電子線の照射を長時間受けても光学的な性質がほとんど変化しない。

請求項（抜粋）：

真空槽と真空を共有する空間内にプラズマの発生源となる装置およびアノード電極が配置されていて、そのアノード電極は真空槽本体とは電気的に絶縁されている、基板上に薄膜を製膜する装置において、アノード電極とは別に製膜用原料発生源を持ち、該製膜用原料発生源はアノード電極とは電気的に絶縁されているが真空槽本体とは電気的に導通していて、しかも製膜用原料発生源と基板との間を直線でむすんで形成される空間と、プラズマの発生源とアノード電極との間を直線でむすんで形成される空間とが一部を共有するように配置された装置。