特許

J-GLOBAL ID：200903066847713719

薄膜成膜装置

発明者： 野浜 祥二
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-336554
公開番号（公開出願番号）：特開平9-181060
出願日： 1995年12月25日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】 被成膜処理体の表面に滴下された液状材料を常圧下での一又は複数のベーキング処理工程と減圧下での焼成処理工程を連続的に行うことにより薄膜化する薄膜成膜装置において、多品種、小量生産の下における成膜の高効率化の要求に応え、更に狭占有面積化を図る。【解決手段】 各ベーキング処理及び焼成処理をそれぞれ別個の枚葉式処理室7、8、9、14にて行うようにする。枚葉式焼成室14における加熱はランプ18により行う。

請求項（抜粋）：

被成膜処理体の表面に滴下された液状材料を常圧下での一又は複数のベーキング処理工程と減圧下での焼成処理工程を連続的に行うことにより薄膜化する薄膜成膜装置において、各ベーキング処理及び焼成処理をそれぞれ別個の枚葉式処理室にて行うようにされたことを特徴とする薄膜成膜装置

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768

FI (5件)：

H01L 21/31 A ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 567 ,  H01L 21/90 Q