特許

J-GLOBAL ID：200903066869769106

真空蒸着装置

発明者： 綾目 吉彦 ,  白川 忠秀 ,  瓦谷 立身
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-326766
公開番号（公開出願番号）：特開平6-172983
出願日： 1992年12月07日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：

【要約】【目的】 電子ビームの入射効率を高めると同時に幅広の被成膜材に一様に成膜できる真空蒸着装置を提供する。【構成】 成膜材るつぼ3の側方に被成膜材と成膜材るつぼ3との間に向けて電子ビームを打ち出す電子銃4を設け、成膜材るつぼ3を挟んで1対の主偏向磁極5を設け、さらに成膜材るつぼ3に沿わせて少なくとも1対の補助偏向磁極6を配置した。

請求項（抜粋）：

成膜材るつぼに電子ビームを照射して被成膜材に成膜する真空蒸着装置において、成膜材るつぼの側方に被成膜材と成膜材るつぼとの間に向けて電子ビームを打ち出す電子銃を設け、成膜材るつぼを挟んで1対の主偏向磁極を設け、さらに成膜材るつぼに沿わせて少なくとも1対の補助偏向磁極を配置したことを特徴とする真空蒸着装置。