特許
J-GLOBAL ID:200903066876430807

粒子薄膜の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-129840
公開番号(公開出願番号):特開平6-339625
出願日: 1993年05月31日
公開日(公表日): 1994年12月13日
要約:
【要約】【構成】 担持用基板3上に液体膜2を配設した後にこの液体膜2上に粒子分散液1を液体膜2と混合することなく展開し、分散媒と液体膜2とを蒸発させて担持用基板3上に粒子薄膜を形成する。【効果】 粒子薄膜の平坦さを保ちつつ、また粒子薄膜を他の転写基板に移すことなく、粒子薄膜を固体基板に形成担持させることが可能となる。
請求項(抜粋):
担持用基板上に液体膜を配設した後にこの液体膜上に粒子分散液を液体膜と混合することなく展開し、分散媒と液体膜とを蒸発させて担持用基板上に粒子薄膜を形成することを特徴とする粒子薄膜の製造法。

前のページに戻る