特許
J-GLOBAL ID：200903066883934756
露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-347109
公開番号（公開出願番号）：特開平6-194844
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】 液晶表示素子を含む遮光手段を用いて、マスクの製造コストやマスク交換時間を低減し、処理能力の高い露光装置を提供する。【構成】 液晶表示素子を含んで構成されるマスク11には、制御回路によって、パターン記憶回路に記憶された配線パターンが表示される。露光装置30の光源32からの光14は、マスク11によって遮断/透過され、投影レンズ33によって基板15に照射されて、マスク11に表示された配線パターンが基板15に転写される。したがって、複数の配線パターンを順次表示すれば、マスクの製造コストやマスク交換時間を低減することができ、露光装置30の処理能力を向上することができる。
請求項（抜粋）：
光源と、前記光源からの光の照射方向下流側に配置され、光を透過する透過領域、あるいは光を遮断する遮断領域が配線パターン状に形成される遮光手段と、前記遮光手段に関して光源とは反対側に配置され、前記遮光手段に形成された配線パターンが転写される基板を固定する固定手段と、前記遮光手段と固定手段との間であって、前記遮光手段に形成された配線パターンを基板に投影するレンズとを備える露光装置において、前記遮光手段は、一対の透光性基板間に液晶層を介在した液晶表示素子と、前記液晶層の液晶分子の配向状態を制御する制御手段と、前記液晶表示素子に表示する複数の配線パターンを記憶する記憶手段とを含むことを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
G03F 7/20
, G03B 27/32
, G03F 1/00
, G09F 9/35
